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电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程受到熔滴冷却能力的控制

  • 分类:业界动态
  • 作者:华纳娱乐-真人华纳国际官网-华纳国际开户-华纳国际赌场-老街华纳国际开户-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2022-04-26
  • 访问量:

【概要描述】华纳娱乐-真人华纳国际官网-华纳国际开户-华纳国际赌场-老街华纳国际开户电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程受到熔滴冷却能力的控制:        在电晕等离子处理机喷涂工艺中,粉末颗粒被载气送,入高温高速的等离子体焰流,经加热和加速,以熔融或半熔融的状态高速撞击衬底,迅速铺展并冷却固化,最终形成扁平的单片层,大量单片层不断堆叠最终形成宏观尺度的涂层。        电晕等离子处理机喷涂涂层的特点单元,单片层的形貌特点及单片层之间的堆叠行为决定了涂层的微结构。单片层是电弧喷涂制取涂层的结构基元,其特点与涂层的宏观性能息息相关。        电晕等离子处理机喷涂工艺可控制备涂层的难点在于,工艺中需要控制的因素很多,且往往相互影响。熔滴高温、高速和理化状态分布广等特性,给实时观测和工艺的精确调控也带来了很大的挑战。电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程主要是受到熔滴冷却能力的控制。熔滴冷却速率快,则液态物质流动性降低快,倾向于形成圆盘状的单片层;反之则具有较强的溅射趋势。单片层外形的改变带来的一个与涂层性能息息相关的差异是:圆盘状单片层和衬底之间的结合更牢固,而溅射状单片层和衬底的结合强度相对较低。        更可靠的原位温度、速度监测,特别是能追踪单个熔滴的温度和速度测量无疑是研究工艺参数对单片层特点影响的最直接有效的方法。单片层的形貌特点数据化并使之与涂层整体性能间建立(半)定量关系也是未来发展的一个重要方向。  

电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程受到熔滴冷却能力的控制

【概要描述】电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程受到熔滴冷却能力的控制:
       在电晕等离子处理机喷涂工艺中,粉末颗粒被载气送,入高温高速的等离子体焰流,经加热和加速,以熔融或半熔融的状态高速撞击衬底,迅速铺展并冷却固化,最终形成扁平的单片层,大量单片层不断堆叠最终形成宏观尺度的涂层。
       电晕等离子处理机喷涂涂层的特点单元,单片层的形貌特点及单片层之间的堆叠行为决定了涂层的微结构。单片层是电弧喷涂制取涂层的结构基元,其特点与涂层的宏观性能息息相关。
       电晕等离子处理机喷涂工艺可控制备涂层的难点在于,工艺中需要控制的因素很多,且往往相互影响。熔滴高温、高速和理化状态分布广等特性,给实时观测和工艺的精确调控也带来了很大的挑战。电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程主要是受到熔滴冷却能力的控制。熔滴冷却速率快,则液态物质流动性降低快,倾向于形成圆盘状的单片层;反之则具有较强的溅射趋势。单片层外形的改变带来的一个与涂层性能息息相关的差异是:圆盘状单片层和衬底之间的结合更牢固,而溅射状单片层和衬底的结合强度相对较低。
       更可靠的原位温度、速度监测,特别是能追踪单个熔滴的温度和速度测量无疑是研究工艺参数对单片层特点影响的最直接有效的方法。单片层的形貌特点数据化并使之与涂层整体性能间建立(半)定量关系也是未来发展的一个重要方向。
 

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  • 发布时间:2022-04-26 23:28
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电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程受到熔滴冷却能力的控制:
       在电晕等离子处理机喷涂工艺中,粉末颗粒被载气送,入高温高速的等离子体焰流,经加热和加速,以熔融或半熔融的状态高速撞击衬底,迅速铺展并冷却固化,最终形成扁平的单片层,大量单片层不断堆叠最终形成宏观尺度的涂层。
       电晕等离子处理机喷涂涂层的特点单元,单片层的形貌特点及单片层之间的堆叠行为决定了涂层的微结构。单片层是电弧喷涂制取涂层的结构基元,其特点与涂层的宏观性能息息相关。

电晕等离子处理机       电晕等离子处理机喷涂工艺可控制备涂层的难点在于,工艺中需要控制的因素很多,且往往相互影响。熔滴高温、高速和理化状态分布广等特性,给实时观测和工艺的精确调控也带来了很大的挑战。电晕等离子处理机喷涂工艺中单片层的形成过程主要是受到熔滴冷却能力的控制。熔滴冷却速率快,则液态物质流动性降低快,倾向于形成圆盘状的单片层;反之则具有较强的溅射趋势。单片层外形的改变带来的一个与涂层性能息息相关的差异是:圆盘状单片层和衬底之间的结合更牢固,而溅射状单片层和衬底的结合强度相对较低。
       更可靠的原位温度、速度监测,特别是能追踪单个熔滴的温度和速度测量无疑是研究工艺参数对单片层特点影响的最直接有效的方法。单片层的形貌特点数据化并使之与涂层整体性能间建立(半)定量关系也是未来发展的一个重要方向。

 

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